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高真空多靶磁控溅射镀膜机

高真空多靶磁控溅射镀膜机
型号：JCP350
功能：JCP350高真空多靶磁控溅射镀膜机拥有直流和射频两种电源。直流磁控溅射适用于溅射导体靶材沉积镀膜，例如金属靶材，其特点是比较快；射频磁控溅射适用于溅射导体半导体以及绝缘体靶材镀膜，例如氧化物靶材。

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